Physico-chimie de la surface des semi-conducteurs

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Cet ouvrage présente les principes fondamentaux de la physico-chimie des surfaces des semi-conducteurs et leur importance dans les technologies électroniques modernes. Il décrit la structure atomique et électronique des surfaces, les mécanismes d'adsorption, d'oxydation et de passivation, ainsi que les propriétés des interfaces entre semi-conducteurs, métaux et isolants. L'ouvrage expose également les principales techniques de caractérisation des surfaces, telles que la spectroscopie des photoélectrons (XPS), la spectroscopie Auger (AES), la microscopie à effet tunnel (STM) et la microscopie à force atomique (AFM). Enfin, il met en évidence les applications de ces connaissances dans la fabrication des composants microélectroniques, des dispositifs optoélectroniques, des capteurs et des nanostructures, où la maîtrise des propriétés de surface est essentielle pour optimiser les performances et la fiabilité des dispositifs.

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